超純管道應(yīng)用領(lǐng)域
瀏覽數(shù)量： 696 作者： 本站編輯 發(fā)布時間： 2023-04-18 來源： 本站
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國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)數(shù)據(jù)顯示，2022年全球半導體設(shè)備市場規(guī)模為：晶圓制造前端設(shè)備1010億美元，后端封裝設(shè)備77.6億美元，后段測試設(shè)備87.7億美元
超純管道應(yīng)用領(lǐng)域主要為：
晶圓制程前道，涉及泛半導體，光電子，光伏及電子元器件領(lǐng)域, 具體包含：
刻蝕設(shè)備及薄膜設(shè)備(PVD、CVD)、氧化/擴散爐、清洗/退火等設(shè)備品類，可廣泛應(yīng)用于集成電路、先進封裝、LED、光伏、MEMS 等多領(lǐng)域
CCP 設(shè)備, ICP 刻蝕設(shè)備
化學機械拋光（CMP）設(shè)備
CVD 薄膜設(shè)備, 主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設(shè)備
離子注入機
涂膠顯影
清洗設(shè)備
檢測設(shè)備
